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真空光学平台台面

发布日期: 2024-04-23
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真空光学平台台面,具有防溢、干净、精确、耐腐蚀的特性以及**的结构性能。CleanTop是所有TMC光学顶部的标准配置。
  • 详细内容

真空光学平台台面

TMC将我们固有的CleanTop®设计与几个新专有设计特征、清洁方法以及为德克萨斯大学拍瓦激光项目开发的真空泵送程序相结合,达到了以前无法达到的真空兼容水平。虽然这种新设计不需要烘烤(并且与烘烤不相容),但德克萨斯大学拍瓦激光项目的工程师已经在一个7英尺直径、380立方英尺的腔室中实现了8 x 10-7托,该腔室包含一个14英尺长的CleanTop光学顶部。


与它们的真空兼容性密切相关的事实是,这些顶部只释放极少量的气体,从而确保不会损坏光学元件(因为如果顶部释放太多的污染物导致损坏光学元件,那么达到目标真空水平也无多大用处)。拍瓦激光应用的顶部被证明可以使测试光学元件的光学传输损失小于0.1%。


我们无法确切地保证您能达到什么样的真空度水平或您能保持什么样的光学传输比率。但是,我们可以保证我们将为您提供相同的设计特征、清洁方法和德克萨斯大学拍瓦激光项目中使用的泵送程序,以帮助您实现8×10-7托的真空度和低于0.1%的传输损失。

真空光学平台台面

真空光学平台

规格

▪ CleanTop清洁光学顶部设计

▪ 不锈钢蜂窝芯

▪ 不锈钢CleanTop杯

▪ 与真空兼容的芯几何形状

▪ 工作台端壁上的通风配件

▪ 工艺材料的特殊清洁

▪ 清洁和包装符合NIF项目的严格标准 (劳伦斯利弗莫尔国家实验室的国家点火装置)

▪ 结合使用特殊的泵送程序

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